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磁力研磨机操作说明

来源:www.whjcympg.com 发表时间:2021-07-30


  磁力研磨机操作的关键是获得抛光速度,以便尽快去除抛光过程中产生的损坏层。同时,抛光损伤层不应影响观察到的组织,即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料,以确保高抛光率来去除抛光损伤层,但抛光损伤层也较深;后者需要使用使抛光损伤层变浅的材料,但抛光率较低。


磁力研磨机操作说明

  解决这一矛盾的办法是将抛光分为两个阶段。

  粗抛光的目的是去除抛光后的损伤层。在此阶段,应达到抛光速度。粗糙抛光形成的表面损伤是次要考虑因素,但也应尽可能小。

  还有一种是精抛光。目的是消除粗抛光造成的表面损伤,减少抛光损伤。用抛光机抛光时,试样的研磨面与抛光盘平行,均匀地压在抛光盘上。注意防止样品因压力过大而飞出并产生新的磨损痕迹。

  同时,样品应沿转盘半径旋转和前后移动,以避免磁力研磨机抛光织物的局部磨损过快。在抛光过程中,应不断添加微粉悬浮液,使抛光织物保持一定的湿度。湿度会削弱磨痕抛光的效果,导致试样中的硬质相出现浮雕,钢中的非金属夹杂物和铸铁中的石墨相产生“拖尾”现象。

  

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